Proveedor de obleas y epitaxia de semiconductores compuestos | Grupo Power Wafertech

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GaN Wafers

Plantilla GaN

La plantilla de GaN de PWG se refiere a capas epitaxiales de GaN de alta calidad crecidas sobre sustratos de zafiro, silicio o SiC. Proporcionando una plataforma rentable y lista para la epinefrisación posterior de GaN y la fabricación avanzada de dispositivos.

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GaN Wafers

Epitaxia LED GaN

Las obleas epitaxiales LED GaN de PWG son heteroestructuras AlGaN/InGaN crecidas con MOCVD diseñadas para LEDs UV, azules y verdes de alta eficiencia. Con estructuras precisas de pozo multicuántico (MQW), estas obleas de epi ofrecen una alta eficiencia cuántica interna (IQE), emisión uniforme y una fiabilidad superior del dispositivo.

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Oblea epitaxial de silicio

Oblea epitaxial de silicio

Power Wafertech Group suministra obleas epitaxiales de silicio (obleas de Si epi) cultivadas mediante epitaxia CVD avanzada. Las capas epitaxiales de silicio controladas con precisión se depositan sobre sustratos conductores para lograr el grosor, perfil de dopaje y resistividad requeridos para la fabricación de dispositivos semiconductores.
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GaN Wafers

Epitaxia GaN HEMT

Estructuras HEMT de AlGaN/GaN de precisión para conmutación de RF de alta frecuencia y alta potencia. Cuenta con buffers de bajo defectos y canales 2DEG de alta densidad para un rendimiento superior del dispositivo.

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Sustrato de silicio

Sustrato de silicio

Power Wafertech Group suministra obleas de silicio monocristalino para fabricación de dispositivos semiconductores, MEMS, crecimiento epitaxial y aplicaciones de investigación. Se pueden suministrar tanto obleas de silicio de calidad prima como de prueba de prueba.
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Oblea de dióxido de silicio

Oblea de dióxido de silicio

Power Wafertech Group suministra obleas de dióxido de silicio (SiO₂ sobre Si) fabricadas mediante oxidación térmica controlada de sustratos de silicio. Existen tanto la oxidación térmica seca como la oxidación térmica húmeda para diferentes grosores de óxido y requisitos de proceso. Nuestras obleas SiO₂ presentan un grosor controlado de óxido, buena uniformidad a nivel de oblea y superficies listas para epi-/proceso.
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TRES FAMILIAS DE MATERIALES PRINCIPALES

Hoja de ruta de materiales diseñados para tu dispositivo

Explora sustratos y obleas de epi por familia de materiales. Configuraciones estándar y especificaciones personalizadas disponibles para I&D y producción en volumen.

APLICACIONES & INDUSTRIAS

Aplicaciones e industrias

CASO 01 / SISTEMAS DE ALTA TENSIÓN

Electrónica de potencia

Soluciones de obleas de banda larga diseñadas para arquitecturas de 800V+. Garantizar una conversión de potencia de alta eficiencia, conmutación rápida y un funcionamiento fiable a altas temperaturas.

ENFOQUE DE LA APLICACIÓN

Trenes motrices eléctricos · Carga rápida · Accionamientos de motores industriales

PRODUCTOS RECOMENDADOS

4H-SiC GaN

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INGENIERÍA PERSONALIZADA

Parámetros más allá de la lista estándar

Diámetro y grosor personalizados
Orientación y desmontaje
Dopaje y resistividad
Películas finas y pilas de capas
Perfil de superficie y aristas
Marcado y embalaje
01Requisitos para enviar
02Revisión de ingeniería
03Alineación de especificaciones
04Presupuesto y plazo de entrega
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INVESTIGACIÓN TÉCNICA

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