Sustrato GaN independiente | Grupo Power Wafertech

GaN Wafers

Sustrato de GaN independiente

Los sustratos independientes (FS) de GaN son obleas de GaN a granel que eliminan la plantilla de crecimiento extraña (por ejemplo, zafiro o silicio), proporcionando una plataforma nativa con densidad de dislocaciones significativamente reducida. Esto permite mejorar el rendimiento, la fiabilidad y la vida útil de los dispositivos en aplicaciones exigentes
  • Tamaño 4 pulgadas, 2 pulgadas, 10*10mm2
  • Orientación cristalina plano A/C/M, semipolar, no polar
  • Densidad de dislocaciones <5x106cm⁻² típico
  • Conducción semiaislante o conductor
Especificaciones detalladas

Especificaciones publicadas por diámetro de la oblea.

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ParámetroSustrato independiente de GaN de 4"/100 mm
Orientación cristalinaC-plano (0001) / A-plano (11-20) / M-plano (10-10) / Semipolar / No polar (personalizado)
Grosor300 – 500 μm (estándar); personalizable
Densidad de dislocacionesTípicamente
Tipo de conducción / Dopajetipo n (Si-dopado) · Semiaislante (dopado con Fe o C)
Acabado superficialPulido listo para Epi, Ra ≤ 0,3nm
FWHM≤ 100arc.sec
TTV≤ 15μm
Arco≤ 20μm
Área útil≥ 90%
Aplicaciones

Donde esta oblea aporta valor

01

Diodos láser azules, verdes y UV (LDs)

La baja densidad de defectos es fundamental para lograr una larga vida operativa, una corriente umbral baja y una alta fiabilidad en láseres emisores de borde y VCSELs.

02

Micro-LEDs y pantallas avanzadas

Esencial para fabricar matrices de micropíxeles uniformes y de alta eficiencia con mínima variación de longitud de onda, impulsando pantallas de próxima generación para AR/VR y aplicaciones de ultra alto brillo.

03

Dispositivos RF de alta potencia / alta frecuencia

La combinación de excelente conductividad térmica y propiedades semiaislantes hace que estos sustratos sean ideales para amplificadores de potencia RF de alta linealidad y alta eficiencia en infraestructuras 5G/6G y sistemas de ondas milimétricas.

04

Investigación y Desarrollo Fundamental y Aplicada

La plataforma definitiva para explorar la novedosa física de dispositivos GaN, estructuras cuánticas y conceptos optoelectrónicos de próxima generación.

Preguntas frecuentes

Preguntas frecuentes sobre este producto

Respuestas rápidas sobre selección de materiales, personalización, pruebas y pedidos.

La densidad típica de dislocaciones es <5 × 10⁶ cm⁻². Los valores específicos pueden discutirse según la calidad y aplicación requerida de la oblea.

Sí. Además del GaN convencional en plano c, podemos proporcionar sustratos de plano a, plano m, semipolar y no polar según los requisitos de la estructura del dispositivo prevista.

Investigación técnica

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