Oblea InAs | Grupo Power Wafertech

Obleas compuestas III-V

Oblea InAs

Con una banda prohibida directa estrecha de aproximadamente 0,354 eV a 300 K y una movilidad electrónica excepcionalmente alta, InAs es muy adecuado para detectores infrarrojos, sensores Hall, transistores de alta velocidad y otros dispositivos de alta movilidad.
  • Tamaño 2", 3" y 4"
  • Orientación (100), (111)
  • Tipo de conducción Tipo N (dopado S / Sn) y tipo P (dopado con Zn)
  • Acabado superficial SSP / DSP, listo para epinefrina
  • Embalaje Casete de una o varias obleas, sellado al vacío
Especificaciones detalladas

Especificaciones publicadas por diámetro de la oblea.

Select a diameter to review the corresponding published specification set.

ParámetroSustrato InAs de 2" (50,8 mm)
Tipo de conducciónTipo N
DopanteS / Sn
Orientación(100) / (111)
Grosor500±25um
TTV
Arco
Warp
Movilidad electrónica6.000–20.000 o ≥20.000 cm²/V·s
Concentración de portadores5 × 10¹⁶–1 × 10¹⁸ cm⁻³
EPD≤50.000 cm⁻²
Acabado superficialSSP / DSP, listo para epinefrina
Aplicaciones

Donde esta oblea aporta valor

01

Detección infrarroja

La estrecha banda prohibida de los InAs la hace adecuada para la detección y detección infrarroja, especialmente en el rango de infrarrojo corto y medio. Dispositivos típicos: fotodetectores infrarrojos, sensores IR, sensores de gas, dispositivos de imagen térmica, detectores de espectroscopía. Sustratos recomendados: InAs tipo N o tipo P, dependiendo de la estructura del dispositivo.

02

Electrónica de alta movilidad

InAs ofrece una movilidad electrónica excepcionalmente alta y una masa efectiva electrónica baja, lo que lo convierte en un material atractivo para dispositivos electrónicos de alta velocidad y movilidad. Dispositivos típicos: transistores de alta movilidad Dispositivos de alta frecuencia Dispositivos electrónicos de bajo ruido Sensores Hall Estructuras electrónicas avanzadas III-V Sustrato recomendado: InAs tipo N para aplicaciones que requieren alta movilidad electrónica.

03

Investigación en infrarrojos y optoelectrónica

Los sustratos InAs se utilizan ampliamente como plataforma para la investigación avanzada de materiales y dispositivos III-V. Aplicaciones típicas: Optoelectrónica infrarroja Nanoestructuras semiconductoras Dispositivos cuánticos Desarrollo de materiales epitaxiales Fotodetectores avanzados

Preguntas frecuentes

Preguntas frecuentes sobre este producto

Respuestas rápidas sobre selección de materiales, personalización, pruebas y pedidos.

InAs tiene una movilidad electrónica excepcionalmente alta y una masa electrónica efectiva baja, lo que lo hace atractivo para transistores de alta velocidad, sensores Hall y otros dispositivos electrónicos de alta movilidad.

Tanto los InA tipo N como tipo P pueden usarse para estructuras de detectores infrarrojos. El tipo de conductividad adecuado depende del dispositivo y del diseño epitaxial.

Los InAs tipo N se seleccionan comúnmente para aplicaciones que requieren alta movilidad electrónica.

Investigación técnica

Habla con los ingenieros sobre tus necesidades de obleas

Comparte tu material, dimensiones, especificaciones, fase de aplicación o proyecto. Nuestro equipo revisará tus necesidades y responderá en un plazo de un día laborable.

Respuesta liderada por la ingeniería

Las consultas se dirigen al equipo técnico o comercial correspondiente.

Dirección

Nº 1389, Carretera Lianmei, Zona Industrial de Lianhua, Tong'an, Xiamen, Fujian 361100, China

Teléfono

+86-592-5633652

Correo electrónico

victorchan@powerwafertech.com

Carga de archivo
Correo electrónicovictorchan@powerwafertech.com Teléfono+86-592-5633652